Historia: art. 21

Historia pokazuje kolejne brzmienia przepisu. Jak przepis stosować w danym okresie, mogą określać także przepisy przejściowe innych ustaw.

Od 27 października 2010 r. brzmienia jeszcze nie publikujemy.

Tekst ujednolicony: brzmienie obowiązujące od 1 stycznia 2004 r. do 27 października 2010 r.

Zmiana art. 21 ust. 3: art. 72 pkt 6, Dz.U. 2002 nr 153 poz. 1271 ↗

Na uchwałę w sprawie zwolnienia od odbycia aplikacji rzecznikowskiej kandydatowi służy skarga do sądu administracyjnego.

Poprzednie brzmienie

Na uchwałę w sprawie zwolnienia od odbycia aplikacji rzecznikowskiej kandydatowi służy skarga do ~~Naczelnego Sądu Administracyjnego~~.

art. 72 pkt 6, Dz.U. 2002 nr 153 poz. 1271 ↗

Ta wersja całej ustawy ↗

Tekst pierwotny, do 1 stycznia 2004 r.

Dz.U. 2001 nr 49 poz. 509 ↗

Art. 21. PDF ↗

Od wymogu odbycia aplikacji rzecznikowskiej można zwolnić, w całości lub odpowiedniej części, osobę, która wykaże, że posiada określoną wiedzę lub praktykę w sprawach własności przemysłowej, przydatną do wykonywania zawodu rzecznika patentowego.

Zwolnienie od odbycia aplikacji rzecznikowskiej, zgodnie z ust. 1, następuje, na wniosek kandydata, w drodze uchwały Krajowej Rady Rzeczników Patentowych. Krajowa Rada Rzeczników Patentowych przesyła kopię uchwały, wraz z uzasadnieniem, Prezesowi Urzędu Patentowego.

Na uchwałę w sprawie zwolnienia od odbycia aplikacji rzecznikowskiej kandydatowi służy skarga do Naczelnego Sądu Administracyjnego.

Ta wersja całej ustawy ↗